CVD培育钻石专利案：卡内基科学研究所败诉

“卡内基败诉”，这恐怕是最近几天在国际培育钻石行业讨论最密集的话题之一了。之所以拖了一个星期才跟大伙儿分享，是因为我打算让这个消息先“飞一会儿”。不过目前看来，中文媒体似乎还没有什么深度报道，令人有一些遗憾。不管怎样，我今天就大概讲讲吧。

本文分为四个部分：回顾、现状、原因、小结。资深小伙伴可以直接跳到第三部分。

一、回顾

去年我在《钻石观察》上发布了关于这个案件的文章。当时的情况是这样的：

2020年1月9日，著名的华盛顿卡内基科学研究所（Carnegie Institution）协同WD公司（官方名称叫 M7D Corp.，是卡内基研究所的投资方和专利持有方）向美国政府提起上诉，认为有6家培育钻石公司侵犯了其两项技术专利权。

这6家公司在（CVD）业内极为有名，分为三组遭到了卡内基（及WD）的上诉，它们别是：

第一组：

Pure Grown Diamonds（纽约）
IIa Technologies（新加坡“姊妹公司”）

第二组：

Fenix Diamonds（纽约）
Mahendra Brothers（印度“母公司”）

第三组：

ALTR Inc.（纽约）
R.A. Riam Group（纽约“母公司”）

两个月后，WD突然撤销了对第三组公司的上诉，外界几乎没有人知道这是为什么。10月，WD和ALTR签订了协议，向后者颁发了专利使用许可证。至于里面是否涉及到专利费等问题，我们不得而知。

同样是在10月，WD和第一组公司之间也“匆匆结案了”。当时全世界几乎没有任何媒体能讲清楚具体的结案方式，只是模糊地说了句“The motion did not stipulate any conditions”。很多人猜测，可能是IIa选择“破财免灾”，因为当时它还面临另一项专利诉讼案，并且牵扯到了一位“惹不起的对手”——戴比尔斯旗下的元素六（Element 6）。

这样一来，只剩下了第二组公司：Fenix 和 Mahendra。

顺便说一下，这两家公司的控股方都是业内知名的“帕里克家族”（Parikh Family）。

二、现状

今年6月16日，法官杰德·拉科夫（Jed S. Rakoff）在宣判中认为，Fenix公司并没有侵犯卡内基的专利权，因为其CVD工艺和卡内基申请的专利内容之间有“显而易见的区别”（原文是 readily apparent differences）。

卡内基的专利有两项：

1）第6858078号专利（简称“078专利”）。主要内容：控制CVD钻石生长时的表面温度，确保其表面温度变化低于20℃；
2）第RE41189号专利（简称“189专利”）。主要内容：采用特殊范围内的退火工艺提升CVD钻石的肉眼净度。

三、原因

我看了一遍（长达32页的）庭谕书，里面涉及了大量的技术和法律内容（公众号读者可以看一下“阅读原文”）。为了节省各位的时间，我会（照例）尝试用通俗的方式解释其中两个有趣的“分歧”：

1）卡内基的专利描述中，在控制CVD生长表面温度的工艺上需要用到一个名为“鞘”（sheath）的装置。这个“鞘”的作用，是为了防止CVD钻石在生长过程中表面的边缘形成多晶或孪晶。但Fenix的技术描述显示，他们并没有用到这个“鞘”。因为Fenix不会阻止这种多晶和孪晶的形成，而是会在后期通过切割工序去除它们。

2）卡内基（的专利文件）认为，如果需要控制表面温度差低于20℃，就需要采用“侧触点支架”（side-contact holder）。但Fenix通过实践和专家论证表示，如果要将温差控制在20℃范围内，是不需要用这个支架的。

还有很多其他相关的内容，比如Fenix认为卡内基对于专利的维护有“不公平”嫌疑、双方在辩述中采用的各项证据等等，此处不做赘述。

综上所述，拉科夫认为，Fenix没有侵权。

这个宣判让Fenix方面十分满意，公司还发表了公告，除了对客户“长达18个月以来的支持”表示感谢之外，还说“这反映了市场的态度”。

卡内基（和WD）并没有任何公开的表态。

四、小结

案子到底判得对不对，我们不适合评论。业内外对专利问题究竟怎么看待，也有待商榷（和时间的检验）。之前已经和解并签约的ALTR会不会觉得不公，那是后续需要追踪的事儿，今天暂时讲不了。但可以肯定的是，专利问题经过这一年半以来的讨论和磨合，已经成为了国际培育钻石行业关注的话题。很多业内公司或许依旧在等待，但作为独立观察者，我建议各位朋友随时做好准备，也许未来会有变化。

言尽于此，各自珍重。

May the DiamondSpectator®️ be with you.