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日本三菱将在中国建设半导体清洗液工厂

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据日经中文介绍,三菱瓦斯化学将在中国新建半导体清洗液工厂。该产品用于在半导体的生产过程去除微小杂质。三菱瓦斯化学在全球市场占有约5成份额,位居第一。近年来,随着新一代通信网络不断实用化和物联网(IoT)的普及,全球对半导体的需求十分旺盛。三菱瓦斯化学将强化相关产品的供应体制,抓住不断扩大的需求。
中国的新工厂计划最早于2022年上半年投产,投资额未予公开。新工厂生产的是「超纯过氧化氢」。过氧化氢一般用于消毒液等,提高其纯度可生产超纯过氧化氢。在半导体的生产过程中,需要在不破坏微细半导体结构的情况下清除细小杂质,作为清洗液离不开超纯过氧化氢。该产品也用于研磨和蚀刻等工序。
预计中国的年产能将达到9万吨,以抓住半导体产业不断增长的中国国内需求。三菱瓦斯化学已开始在日本、韩国、中国台湾、美国、新加坡等国家和地区生产超纯过氧化氢。加上中国大陆的产能,全球总体年产能将增加16%,达到64.4万吨。
据介绍,三菱瓦斯化学在全球超纯过氧化氢市场拥有约5成份额。还预定最早于2023年在台湾启动新的原料工厂,推进在当地建立一条龙生产体制的计划等,目前正在大力完善供应链。

超纯过氧化氢,为何那么火?


根据资料显示,湿电子化学品种类繁多,按照应用区分,分为通用型和功能型两种,其中在通用型湿电子化学品行业中,电子级双氧水是通用型湿电子化学品消费占比最大的品种,也是行业关注度极高的产品。所以,我们尽量通过本文来阐述中国电子级双氧水行业的现状及发展趋势。
电子级双氧水,又称为“电子级过氧化氢”,是大规模集成电路生产工艺中所必须的电子化学原料。高纯电子级双氧水为蓝色粘稠液体,其水溶液称为双氧水。电子级双氧水主要用于半导体硅片清洗剂,蚀刻剂和光刻胶去除剂,还可用于高阶绝缘层制取,电镀液无机杂质去除,电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理,以及太阳能矽晶片的蚀刻和清洗。
电子级双氧水是大规模积体电路生产中所必须可少的原料,由于电子元器件所用的试剂中的杂质,会对电子元器件效能、导电性及寿命等产生直接的影响,所以需要用到纯度较高的双氧水,俗称“电子级双氧水”。电子级双氧水目前被广泛应用在半导体、超大集成电路装配和加工过程中的清洗和腐蚀等方面,是电子工业中一种十分重要的工艺化学品。
半导体硅材料主要应用于半导体元器件和积体电路,目前95%以上的半导体器件和99%以上的积体电路(LSI)都是用高纯优质的矽抛光片和外延片制作的,是目前可获得纯度最高的材料之一。这种材料做成的硅片,被称为半导体硅片,用于电子计算机、电信通讯、电视、微波传送、极光转换、医疗装置等,其中太空梭是半导体矽材料应用最为广泛和最高阶的机器之一。因为半导体矽材料纯度较高,而加工过程中却因各种原因留下污染物,这些污染物如果不及时清理,就容易影响效能、精准度,甚至报废。所以,半导体矽材料的清洗显得尤为重要。如果用强酸和强碱予以清洗,容易产生副产品,所以,多选择用电子级双氧水予以清洗。
根据调查,电子级双氧水是湿电子化学品领域中重要的代表产品,也随着全球对湿电子化学品领域的消费增长,供应和需求呈现了增长的趋势。根据统计,2019年全球电子级双氧水的市场规模达到25亿美元左右,在过去几年中呈现了高速增长态势。
根据相关资料统计,2019年全球电子级双氧水G1消费体量超过33万吨规模,较2018年同比增长13.5%,2019年全球电子级双氧水G1的供需基本保持平衡的状态。根据对最新的资料显示,随着电子行业的蓬勃发展,全球电子级双氧水G1的需求将呈现高速增长的态势,预计2020年全球电子级双氧水G1市场规模将达到37.89万吨左右。
另外,据了解,电子级双氧水G2-G3级别,主要应用在平板显示和LED等领域,随着近几年LED等领域的高速扩张,特别是以中国为主要代表的LED产能和消费高速增长,驱动了G2-G3级别电子级双氧水的消费增长。根据统计显示,2019年全球G2-G3级别电子级双氧水的消费规模在15万吨左右,较2018年增长了13.5%,属于高速增长的产品。


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